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表面修飾技術

將各種功能添加至薄膜表面且創造出符合各項用途需求的表面屬性,產品可具備各種不同特性。 其中部份產品介紹,如下文所述。

導電性達成技術

真空環境下、薄膜表面上製造導電性奈米級薄膜,該項技術可用於製造柔性印刷電路板與觸控面板專用透明導電膜等產品。

噴濺沈積技術
於 Ar 氣壓內向某一目標施加高電壓時,會形成 Ar+ 與電子組成之等離子體。 電場內的 Ar+ 加速,衝擊目標,然後濺射出一種目標物質。 某些情況下,濺射原子直接沉積到基材薄膜,而其他情況則是在 Ar 氣體中加入氧氣或其它活性氣體,從而形成內含目標物質與氧氣的複合物沉積。 關於後面一種成形方法的其中一個例子是 ITO 透明導電膜,因分解導致 In2O3-SnO2 目標流失,而透過補充氧氣形成了這種 ITO 透明導電膜。

低反光率達成技術

在光學薄膜表面,反射光線會產生干擾與散射,在這裡形成一層保護層,可防止外部光線反射,從而提高顯示器的清晰度。

控制改善眩光
防眩光處理
將內含分散的玻璃或塑膠珠的樹脂塗佈於物體表面,從而使反射光以微米級波紋散射於表面。
控制改善反光
防反光處理
具有高、低折射率與光學厚度的交替層,經設計使表面反射光與光學界面反射光可相互抵消。

表面能量控制技術

取決於薄膜表面形成的材料種類,我們可成功控制薄膜表面能量,提昇兩種表面的黏貼度。 控制薄膜表面能量的方法有濕式與乾式製程。 乾式製程實例說明如下。
控制改善流程
濺射蝕刻處理
向旋轉電極供應高 RF 電壓,從而誘導放電,高能離子衝擊薄膜,形成微小起伏並加強表面各種官能基。 利用此方法修飾表面,可改善黏著力。 本技術用於氟樹脂膠帶。

等離子體處理
向下電極供應高 RF 電壓從而誘導放電,離子和自由基在薄膜表面上發生作用,加強表面各種官能基。 此技術用於在聚酸亞胺膜上形成銅導線。
  

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上班時間 (台灣時間)
8:30-17:30 (星期六、星期日與例假日除外)

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