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Materiale di processo

Materiali protettivi per superfici E-MASK® RP Series

Materiale protettivo di grado ottico con una proprietà antistatica prodotta in un ambiente pulito di classe 1000.

Materiali protettivi per superfici E-MASK® RB-S Series

Materiali protettivi per superfici con proprietà antistatiche, la soluzione ideale per le applicazioni che non tollerano l'elettricità statica come i pannelli LCD.

Pellicola porosa in polietilene di peso molecolare ultraelevato SUNMAP®

Pellicola porosa multifunzione per un'applicazione versatile.

Versioni nastro di riduzione spessore wafer ELEP HOLDER

Rilascio a bassa adesione e rilascio UV. Le straordinarie caratteristiche agevolano il processo di riduzione dello spessore del wafer durante la produzione dei wafer.

Versioni del nastro di spezzettatura ELEP HOLDER

Rilascio a bassa adesione e rilascio UV. Le straordinarie caratteristiche sostengono il processo di suddivisione in piastrine della produzione di wafer.

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