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Material für den Prozess

Oberflächenschutzmaterial E-MASK® RP Series

Optisch hochwertiges Schutzmaterial mit antistatischen Eigenschaften, das in einem Reinraumumfeld der Klasse 1000 produziert wird.

Oberflächenschutzmaterial E-MASK® RB-S Series

Oberflächenschutzmaterial mit antistatischen Eigenschaften, die sich ideal für Anwendungen eignen, die keine elektrostatische Aufladung vertragen, wie LCD-Bildschirme.

Poröse Polyethylenfolie mit äußerst hohem Molekulargewicht SUNMAP®

Multifunktionale poröse Folie für die verschiedensten Anwendungen.

Übersicht Rückseitenschleiffolien ELEP HOLDER

Geringe Haftlösung und UV-Ablösung. Ausgezeichnete Eigenschaften unterstützen den Abschleifvorgang in der Wafer-Produktion.

Sägefolienübersicht ELEP HOLDER

Geringe Haftlösung und UV-Ablösung. Beste Eigenschaften unterstützen den Sägevorgang in der Wafer-Produktion.

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