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表面改性技术

通过在膜表面添加各种功效并开发能适应特定应用目的的表面,可生产出具有多种特性的产品。 请见下列产品介绍。

提高导电性技术

真空条件下,在膜表面形成导电性纳米级薄膜的技术应用于如挠性印制电路板和触摸板透明导电薄膜等产品。



溅射沉积技术
在氩气中对目标施加高压时,便会形成 Ar+ 和电子组成的等离子体。 Ar+ 在电场中加速,会对目标产生影响,最终喷射出目标物质。 有些情况下,喷射出的原子会直接沉淀到基膜上,而另一些情况下,如果如氧气等活性气体混入氩气中时,则会沉淀出包含目标物质和氧气的化合物。 ITO 透明导电膜便属于后一种,通过补充 In2O3-SnO2 目标物质中的氧气(在分解过程中失去)形成。

降低光反射率技术

形成层是光学膜表面反射光的干扰和散射产生的地方,此外,形成层能防止外部光线反射,并使显示器显示效果更好。

控制改善眩光
防眩光处理
将含分散玻璃珠或塑料珠的树脂涂在表面,会形成微米尺度的波纹,使反射光在表面上散射开来。
控制改善反射
抗反射处理
具有高反射率和低反射率以及光学厚度的互层使表面的反射光和光接口的反射光能够彼此抵消。

控制表面能技术

根据膜表面形成的材料,可以控制膜的表面能并改善双面的粘合状况。 控制表面能的方法包括湿制程和干制程。 下述实例为干制程。
控制改良工艺
溅射腐蚀处理
通过向旋转电极提供高射频电压并诱导放电,高能离子会对膜产生影响,使其形成微小波动并将各种功能基添加至表面。 通过这种方式改变表面可提高粘合力。 这种技术用于氟树脂胶带。

等离子处理
通过向下电极提供高射频电压并诱导放电,离子和自由基可对膜表面施加影响,从而将各种功能基添加至表面。 该技术用于在聚酰亚胺膜上形成铜丝。
  

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